これらの取り組みには、スピードとディスパッチを備えたカスタマイズされたデザインの可用性が含まれます 工業用液化ガス貯蔵, 液化二酸化炭素貯蔵タンク, 水平型極低温貯蔵タンク 。 私たちは、科学研究で達成した結果を私たちの発展に適用するよう努めています水平型極低温貯蔵タンク。 当社の製品は多くの国に輸出されています。私たちは、国内外の顧客から高い評価を得ており、正直で信頼できるエンタープライズイメージを確立しています。 私たちは、問題を見つけ、それらを分析し、解決するのが得意です。 私たちのチームは、自分の仕事に情熱を傾ける経験豊富な専門家で構成されています。 当社の専門家チームは、お客様の特定のニーズを満たすパーソナライズされたソリューションを提供し、成功と成長を確保するために装備されています。 当社の専門家チームは、プロジェクトのライフサイクル全体を通じてクライアントにパーソナライズされたサービスとサポートを提供することができます。
  • LN貯蔵タンク

    LN 貯蔵タンクは、高純度の液体窒素または LNG 用に設計された極低温容器です。{0}低いボイルオフ率(BOR)と優れた断熱性を備えており、産業、医療、エネルギー用途に信頼性の高い大容量貯蔵庫を提供します。

  • 小型極低温空気分離装置

    小型極低温空気分離ユニット (ASU) は、現場で高純度の酸素と窒素を生成するように設計された、事前に組み立てられたスキッド マウント型ガス発生システムです。{{0}低温極低温蒸留を使用するこのコンパクトなユニットは、液体ガスの輸送コストを削減し、産業プラント、化学施設、電子機器製造に安定した継続的なガス供給を提供します。

  • PSA窒素発生装置

    PSA 窒素生成装置は、-現場での継続的な高純度窒素生成-を目的に設計されています。高品質のカーボン モレキュラー シーブ (CMS) 吸着剤を使用して設計されたこのシステムは、周囲の圧縮空気を最大 99.9995% の純度の窒素に変換し、液体窒素の補充を不要にします。

  • モレキュラーシーブ精製空気分離装置

    このモレキュラーシーブ精製空気分離装置は、極低温空気分離装置(ASU)のフロントエンド空気前処理システムとして設計されており、深冷蔵する前に水分(H2O)、二酸化炭素(CO2)、微量炭化水素(C2H2 など)を除去します。-主要な熱交換器と蒸留塔を危険な詰まりから保護し、継続的でエネルギー効率の高いガス生産を保証します。-

  • 製鉄所用の大規模空気分離装置-

    製鉄所用の大規模空気分離ユニットは、高炉、BOF、EAF、DRI プラントに継続的かつ高純度の酸素、窒素、アルゴンを直接供給します。{1}{1}これらのシステムは、24 時間 365 日ノンストップで稼働できるように設計されており、極低温蒸留、プロセス オートメーション、最適化された冷凍を統合し、最新の製鉄操業に信頼性の高いガス供給を保証します。-

  • LO₂ 貯蔵タンク

    LO₂ 貯蔵タンクは、汚染を防ぎ、ボイルオフを制御するための多層断熱材を備えた酸素{0}}クリーンな極低温容器です。-、医療、航空宇宙、産業用途に安全なバルク酸素貯蔵を提供します。

  • LAR貯蔵タンク

    LAR 貯蔵タンクは、-196 度で貯蔵するように設計された極低温圧力容器です。真空-パーライト断熱材を採用してボイルオフを最小限に抑え、-産業用および電子機器に信頼性の高い高純度ガス供給を提供します。

  • 平底貯蔵タンク-

    平底貯蔵タンクは、大量の液体を貯蔵するためにコンクリートの基礎に固定された大型の工業用容器で、石油、水、化学薬品を高い容量効率で確実に格納します。

  • モレキュラーシーブ精製システム

    モレキュラー シーブ精製システム(MSPS)は、合成ゼオライトの吸着を使用して微量の水分、二酸化炭素、炭化水素を除去し、極低温およびパイプライン標準用の高純度ガスを供給する脱水および汚染物質除去ユニットです。{0}{1}

  • 自動洗浄式エアフィルター-

    自動洗浄式エア フィルタは、自動パルス{{1} ジェット技術を使用しており、粉塵の多い環境でも継続的に高負荷で動作します。-手動で交換することなく安定した空気の流れを維持し、ダウンタイムとメンテナンスを最小限に抑えます。

  • 高純度酸素-

    高純度酸素(99.5% 以上~99.999% 以上)は、-水分と炭化水素が極めて少ない工業用および医療用ガスです。-溶接、半導体製造、レーザー切断、医療に使用され、最適な燃焼と汚染ゼロを保証します。

  • 高純度アルゴン-

    高純度アルゴン(99.999% 以上~99.9999% 以上)は、酸化や汚染を防ぐ保護雰囲気を提供するために、溶接、半導体製造、冶金、研究室で使用される不活性希ガスです。{0}}

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